Pulstec u-X360s 用途： 塑性加工 （ex. 壓延、沖壓、模具） 熱處理 （ex. 淬火、退火、深冷處理等） 表面改質 （ex. 珠擊、噴砂、雷射珠擊） 金屬加工 （ex. 溶接、切削、研磨） 機械設備或基礎建設之維護 （ex. 應力腐蝕破損、使用壽命） 規格...
退火（Annealing）在冶金學或材料工程中，是一種改變材料微結構且進而改變如硬度和強度等機械性質的熱處理。 過程為將金屬加溫到某個高於再結晶溫度的某一温度並維持此溫度一段時間，再將其緩慢冷卻。退火的功用在於恢復该金属因冷加工而降低的性質，增加柔軟性、延性和韌性，並釋放內部殘留應力、以及產生特定的顯微結構 ...
在鋼鐵產業或實驗室，有時會用到「退火爐」，退火爐還有分什麼鐘罩式、快速式…等等；「退火爐」在幹什麼？為什麼叫「退火」？ (解答) RTA(Rapid Thermal annealing)快速熱退火處理系統，主要是利用快速升降溫的方式對晶片做有效的熱處理，並減少雜質的外擴散效應，較傳統的爐管減少許多熱運算。同時，通入O2後，此系統具有長薄 ...
淬火，金属和玻璃的一种热处理工艺。钢的淬火是将钢加热到临界温度Ac3（亚共析钢）或Ac1（过共析钢）以上温度，保温一段时间，使之全部或部分奥氏体1化，然后以大于临界冷却速度的冷速快冷到Ms以下（或Ms附近等温）进行马氏体（或贝氏体）转变的热处理工艺。通常也将铝合金、铜合金、钛合金、钢化玻璃等材料的固溶处理或带有 ...
2008年2月22日 - 準分子雷射退火-ELA ELA技術是目前最廣為工業界所使用的技術，在雷射光源上以XeCl準分子雷射具有較好的氣體穩定性和在波長308nm處a-Si薄膜具有高吸收係數的優點。ELA原理先利用PECVD方式沉積低氫含量a-Si薄膜，再以400℃~500℃溫度作去氫動作，去氫完成後以準分子雷射為主要動力能量，利用瞬間 ...
生長時間，原理主要是藉由鎳與矽(Si)之間的反應產生二矽化鎳. (NiSi2)，進行退火後可產生金屬誘發結晶與金屬側向誘發結晶兩種. 結構，再進行其微結構觀察。 本實驗主要利用快速熱退火爐(Rapid Thermal Anneaing, RTA)系. 統成長方式，一方面與高溫退火爐管製作的複晶矽比較，另一方面觀. 察製作在不同參數下之複晶矽的研究。
青岛丰东热处理有限公司是丰东股份在山东的控股子公司，是从事热处理加工， 热处理装备研发与制造的专业公司。为客户提供化学热处理（渗碳、渗氮、碳氮共渗）、 真空热处理、等离子热处理（离子渗氮）、常规热处理（含深冷处理）等四大领域的 热处理加工服务；还可以可为不同行业的顾客量身定做技术先进、质量可靠、节能 增产的专用 ...
半導體氣體供應零組件要求高潔淨性、表面平滑性、抗蝕性、低洩漏率等，目前適用於半導體元 件的表面處理方法有：機械拋光法+化學鈍化法、化學抛光法(chemical polishing, CP)、光輝熱 處理(bright annealing, BA)與電解拋光法(electro-polishing, EP)等。
輸電系統 絕緣礙子、夾板、跳線、電纜線壓接套管..... 變電系統 空斷開關、空氣斷線器、氣封斷路器、油斷路器、少油量斷路器、避雷器、電容器、電抗器、變壓器、匯流排..... 配電系統 配電盤、開關箱、變壓器、斷電器、接觸器、保險絲、電纜.....
由於要隨著電路板 一起經過迴焊爐，溫測紀錄器在體積上要短小輕薄，市面上的 產品厚度約為12mm，而寬度有57mm 和106mm 兩款，長度要求比較不嚴苛約 在150mm 左右。溫測紀錄器內之微處理器的正常工作溫度環境為0 C 至70 C ...
