電弧（英語：electric arc），又稱弧放電（arc discharge），是由於電場過強，氣體發生 電擊穿而持續形成等離子體，使得電流通過了通常狀態下的絕緣介質（例如空氣）的 現象，或者說當通電的高電壓電路出現導體與導體的分開時，兩段就會出現電弧。 1808年漢弗里·戴 ... 電弧燈、電影院用的電影放映機也是利用電弧原理的一些設備。
1.3 電弧放電原理. 1.3.1 電漿的形成. 電極間電弧放電所不可或缺的因素為電漿的 產生，而所謂. 的電漿是指由諸多離子、電子、分子、及原子團(Radicals)所. 組成的部 份離子化氣體，為人類發現物質三態外的第四態。圖. 1-6 顯示一簡易的電漿產生器， 由兩個相對的金屬電極板所組. 成。當容器內的真空度為一大氣壓，兩個電極板將 吸附與 ...
CVD 原理 (a)反應物以擴散通過介面邊界層。(b)反應物吸附在晶片表面。(c)化學沉積反應發生。(d)部份生成物藉擴散通過介面邊界層。(e)部分生成物與未反應物進入主氣流裡，並離開系統。捷胤工業有限公司
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論文中將研究Plasma Arcing 發生的主因及改善方法，討論PECVD RF 之作用原理， Heater Top Plate 受電漿蝕刻離子轟擊,導致陽極膜破損進而導致Plasma Arcing的 ...
PECVD RF 之作用原理，Heater Top Plate 受電漿蝕刻離子轟擊,導. 致陽極膜破損 進而導致Plasma Arcing 的作用原理。 論文中也將提出預防RF Plasma Arcing 之 ...
論文之主題是PECVD 沉積薄膜因Wafer Arcing 造成沉積薄膜厚度不均. 而導致IC ... PECVD 製程原理, 電漿原理、CVD Clean endpoint 介紹、電漿中RF Vdc Vpp 代.
電弧放電（でんこほうでん）、または、アーク放電（英: electric arc 英語発音: [iˈlektrik ɑːrk]）は、電極に電位差が生じることにより、電極間にある気体に持続的に発生する ...
論文中將研究Plasma Arcing 發生的主因及改善方法，討論PECVD RF 之作用原理， Heater Top Plate 受電漿蝕刻離子轟擊,導致陽極膜破損進而導致Plasma Arcing的 ...
2017年2月15日 ... 自动的引用计数（Automatic Reference Count 简称ARC），是苹果在WWDC 2011 年大会上提出的用于内存管理的技术。 引用计数（Reference ...
